国家知识产权局信息数据显现，浙江万谷半导体有限公司获得一项名为“一种半导体制冷片清洗槽”的专利，授权公告号CN223902483U，请求日期为2025年2月。
专利摘要显现，本实用新型归于半导体制冷片清洗技术领域，特别触及一种半导体制冷片清洗槽；包含：槽体，用于包容清洗水与半导体制冷片；衔接壳，设置于槽体上部，衔接壳与槽体相连通；烘干组织，设置于衔接壳上，用于发生热量以烘干槽体内待烘干物品；该烘干组织包含：进风槽，开设于衔接壳一侧；热风机，设置于衔接壳外侧，并经过进风槽与衔接壳相连通；风道，与热风机相连通，热风机驱动风道抽取外部空气，以完成热量经过热风机从进风槽进入衔接壳内；导轨，设置于衔接壳内部两边；密封胶板，滑动设置于两导轨之间，并盖合进风槽。本实用新型供给一种既能高效清洗半导体制冷片，又能对清洗后的半导体制冷片进行相对有用烘干的半导体制冷片清洗槽。
天眼查资料显现，浙江万谷半导体有限公司，成立于2004年，坐落衢州市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。经过天眼查大数据分析，浙江万谷半导体有限公司共对外出资了1家企业，参加招投标项目7次，专利信息56条，此外企业还具有行政许可3个。
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